光刻工艺要经历哪些工序?
来源:www.lps114.com.cn
时间:2021-08-29 13:26
点击:4200
编辑:niming
手机版
光刻工序编辑一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序
感觉不错,赞哦!
(0)
下次努力,加油!
(0)